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      展會SEMICON CHINA 2023

      發布日期:2023-08-15 作者: 點擊:

      由于半導體制程涉及納米尺度的超精密制造,因此對參與其中的工藝介質有著極高的潔凈度要求。

      無論是顆粒物,還是金屬、離子、細菌等污染物,均會導致所制造器件的性能缺陷與良品率下降。顆粒物是導致 半導體制造缺陷的最主要因素,其影響往往是“顯性”。

      此外,工藝介質中的微粒子、細菌、金屬、離子和總有機碳( TOC) 等雜質還會引發晶圓上器件性能產生,包括耐壓劣化、表面粗化、壽命降低等等這些“隱形”缺陷。

      邁思德為解決這些顯性&隱性痛點,不斷研發創新,生產出針對半導體行業的無塵潔凈用品,為半導體制程中的污染物控制助力,從而確保工藝性能和提高產品良率。


      邁思德亮相上海半導體展會,與眾多行業領軍企業同臺競技,共同分享最新的科研技術和研究成果。

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      本文網址:http://www.excitedabouteverything.com/news/419.html

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